| 3C002.a | резисти, призначені для напівпровідникової літографії, а саме: |
| 3C002.b | усі резисти, призначені для використання під час експонування електронними та іонними пучками, з чутливістю 0,01 мкКл/мм 2 або краще; |
| 3C002.c | не використовується; |
| 3C002.d | усі резисти, оптимізовані для технологій формування поверхневого рисунка; |
| 3C002.e | усі резисти, призначені або оптимізовані для використання з обладнанням для літографічного друку, визначеним у позиції 3B001.f.2, в якому використовується процес термообробки або процес світлотверднення. |
Графік роботи:
ПН-ПТ: з 9 до 18
