Єдиний список товарів подвійного використання

Єдиний список товарів подвійного використання
3 Розділ 3. Електроніка
3B Обладнання для випробування, контролю та виробництва.
3B001 Обладнання для виробництва напівпровідникових приладів або матеріалів і спеціально
3B001.f обладнання для літографії, а саме:
3B001.f.3 обладнання, спеціально призначене для виробництва фотошаблонів, що має усі такі
3B001.f.3.b має будь-яку з таких характеристик:
3B001.f.3.b.1 розмір плями, розрахованої як повна ширина пучка на рівні половини максимальної інтенсивності (FWHM), менше ніж 65 нм та розміщення рисунку менше ніж 17 нм (середнє значення + 3 сигма);
3B001.f.3.b.2 не використовується;
3B001.f.3.b.3 похибка суміщення другого шару на фотошаблоні менше ніж 23 нм (середнє значення + 3 сигма);
3B001.f.3.b.4 обладнання, призначене для виготовлення напівпровідникових приладів з використанням методів безпосереднього формування рисунка, що має усі такі характеристики: