| Єдиний список товарів подвійного використання | |
| 3 | Розділ 3. Електроніка |
| 3B | Обладнання для випробування, контролю та виробництва. |
| 3B001 | Обладнання для виробництва напівпровідникових приладів або матеріалів і спеціально |
| 3B001.f | обладнання для літографії, а саме: |
| 3B001.f.1 | обладнання для оброблення пластин із використанням методів фотооптичної або рентгенівської літографії з покроковим суміщенням та експонуванням (безпосередньо на пластині) або скануванням (сканер), що має будь-яку з таких характеристик: |
| 3B001.f.1.a | джерело світла з довжиною хвилі менше ніж 193 нм; або |
| 3B001.f.1.b |
спроможність формування рисунка з "мінімальним розділюваним розміром елементу" (MRF) 45 нм
або менше;
Технічна примітка. "Мінімальний розділюваний розмір елементу" (MRF) розраховується за такою формулою:MRF = (довжина хвилі експонуючого джерела світла у нанометрах) х (К фактор) / (числова апертура),де К фактор = 0,35 |